首页 团体标准 T+CSTM 01199-2024 多层金属薄膜层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

T+CSTM 01199-2024 多层金属薄膜层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。
本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。T+CSTM 01199-2024 多层金属薄膜层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

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